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西门康IGBT的研发进展（二）

日期：2024-05-19 21:18

浏览次数：818

摘要：

1、NPT-IGBT

NPT（非传统型）--西门康IGBT采用薄硅片技术，以离子注进发射区代替高复杂、高本钱的厚层高阻外延，可降低生产本钱25%左右，耐压越高本钱差越大，在性能上更具有特色，高速、低损耗、正温度系数，无锁定效应，在设计600—1200V的IGBT时，NPT—IGBT可靠性*高。市面上有些公司可提供600V、1200V、1700V系列产品和6500V高压IGBT，并推出低饱和压降DLC型NPT—IGBT，NPT型正成为IGBT发展方向。

2、SDB--IGBT

鉴于目前厂家对西门康IGBT的开发非常重视，采用SDB（硅片直接键合）技术，在IC生产线上制作第四代高速IGBT及模块系列产品，特点为高速，低饱和压降，低拖尾电流，正温度系数易于并联，在600V和1200V电压范围性能优良，分为UF、RUF两大系统。

3、超快速IGBT

研发重点在于减少西门康IGBT的拖尾效应，使其能快速关断，研制的超快速IGBT可*大限度地减少拖尾效应，关断时间不超过2000ns，采用特殊高能照射分层技术，关断时间可在100ns以下，拖尾更短，重点产品专为电机控制而设计，现有6种型号，另可用在大功率电源变换器中。

尊敬的客户：

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